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立式擴散爐

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型號︰LSKS-2
品牌︰FRD
原產地︰-
單價︰CNY ¥ 1 / 件
最少訂量︰1 件
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產品描述

本設備主要用於LED、光器件、光纖光纜、集成電路、電力電子器件等行業,對3英吋硅片進行擴散、氧化、退火、合金、鍍膜等工藝。

外型形式:立式兩管結構
   2、硅片尺寸:3英吋.
   3、自動化程度:工藝過程自動化。
   4、送取片方式:手動。
   5、攪動方式: 自動,
   6、立式(垂直)上下操作方式
   7、恆溫區長度:250mm
   8、爐體內徑:Φ125mm
   9、溫度控制:歐姆龍原裝進口控溫儀
   10、恆溫區精度:工作溫度範圍內,±1℃/250mm
   11、單點溫度穩定性、重複性:工作溫度範圍內,±1℃/24h
   12、工作溫度範圍:140ºC-250 ºC
   13、控制系統:每管對應一個觸摸屏,一台工控機集中管理兩個爐管
  15、 恆溫區溫度技術條件(閉管靜態測試):
 1、工作溫度範圍:       140~400 ℃。
 2、長期工作溫度:       250℃
 3、恆溫區長度及精度:   200~400 ℃:  250mm/±1℃                                      
 4、單點溫度穩定性:     200~400 ℃:  250mm/±1℃/24h                               
 5、單點溫度重複性:      ≤1℃
         6 、具有恆溫區溫度可編程自動實時修正(自動拉溫區)。
    16、昇降溫的控制曲線斜率:
     1、升溫方式:         隨爐升溫。
 2、升溫速率範圍:     0~400℃:   0.1~10℃/min 可控可設定編程。
            最大升溫速率:     10℃/min。
 3、降溫速率範圍:     400~200℃: 0.1~2℃/min  可控可設定編程。
            最小降溫速率;     0.1℃/min。
         4、管間影響:             ≤0.5℃。

產品圖片



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