本設備主要用於LED、光器件、光纖光纜、集成電路、電力電子器件等行業，對3英吋硅片進行擴散、氧化、退火、合金、鍍膜等工藝。
外型形式：立式兩管結構
2、硅片尺寸：3英吋.
3、自動化程度：工藝過程自動化。
4、送取片方式：手動。
5、攪動方式： 自動，
6、立式（垂直）上下操作方式
7、恆溫區長度：250mm
8、爐體內徑：Φ125mm
9、溫度控制：歐姆龍原裝進口控溫儀
10、恆溫區精度：工作溫度範圍內，±1℃/250mm
11、單點溫度穩定性、重複性：工作溫度範圍內，±1℃/24h
12、工作溫度範圍：140ºC-250 ºC
13、控制系統：每管對應一個觸摸屏，一台工控機集中管理兩個爐管
15、 恆溫區溫度技術條件（閉管靜態測試）：
1、工作溫度範圍: 140～400 ℃。
2、長期工作溫度: 250℃
3、恆溫區長度及精度: 200～400 ℃： 250mm/±1℃
4、單點溫度穩定性: 200～400 ℃： 250mm/±1℃/24h
5、單點溫度重複性: ≤1℃
6 、具有恆溫區溫度可編程自動實時修正（自動拉溫區）。
16、昇降溫的控制曲線斜率:
1、升溫方式： 隨爐升溫。
2、升溫速率範圍： 0～400℃： 0.1～10℃/min 可控可設定編程。
升溫速率： 10℃/min。
3、降溫速率範圍： 400～200℃： 0.1～2℃/min 可控可設定編程。
最小降溫速率； 0.1℃/min。
4、管間影響： ≤0.5℃。
