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立式扩散炉

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型号︰LSKS-2
品牌︰FRD
原产地︰-
单价︰CNY ¥ 1 / 件
最少订量︰1 件
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产品描述

本设备主要用于LED、光器件、光纤光缆、集成电路、电力电子器件等行业,对3英寸硅片进行扩散、氧化、退火、合金、镀膜等工艺。

外型形式:立式两管结构
   2、硅片尺寸:3英寸.
   3、自动化程度:工艺过程自动化。
   4、送取片方式:手动。
   5、搅动方式: 自动,
   6、立式(垂直)上下操作方式
   7、恒温区长度:250mm
   8、炉体内径:Φ125mm
   9、温度控制:欧姆龙原装进口控温仪
   10、恒温区精度:工作温度范围内,±1℃/250mm
   11、单点温度稳定性、重复性:工作温度范围内,±1℃/24h
   12、工作温度范围:140ºC-250 ºC
   13、控制系统:每管对应一个触摸屏,一台工控机集中管理两个炉管
  15、 恒温区温度技术条件(闭管静态测试):
 1、工作温度范围:       140~400 ℃。
 2、长期工作温度:       250℃
 3、恒温区长度及精度:   200~400 ℃:  250mm/±1℃                                      
 4、单点温度稳定性:     200~400 ℃:  250mm/±1℃/24h                               
 5、单点温度重复性:      ≤1℃
         6 、具有恒温区温度可编程自动实时修正(自动拉温区)。
    16、升降温的控制曲线斜率:
     1、升温方式:         随炉升温。
 2、升温速率范围:     0~400℃:   0.1~10℃/min 可控可设定编程。
            最大升温速率:     10℃/min。
 3、降温速率范围:     400~200℃: 0.1~2℃/min  可控可设定编程。
            最小降温速率;     0.1℃/min。
         4、管间影响:             ≤0.5℃。

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